型号： CPD-SG
该系统专为半导体洁净室应用设计，将全自动工艺控制与对二氧化碳供应的0.08微米精细过滤相结合，以最大限度地减少颗粒污染，并保护敏感的晶圆表面和微结构。西门子PLC和高分辨率LCD触摸屏支持预设的处理程序和可自定义的工艺配方，从而实现一致且可重复的干燥效果。.
The system is suitable for semiconductor wafers, patterned chips, MEMS devices, microelectronic structures, and other samples requiring high levels of cleanliness. It supports drying after wet processing and MEMS release, helping reduce capillary-induced stiction and structural collapse while preserving micro and nanoscale features.
1.细颗粒物（CO）₂ 过滤
0.08 μm 过滤系统可减少二氧化碳供应中的颗粒物污染，有助于保护敏感的晶圆表面和微结构。.
2. 符合洁净室要求的配置
材料、样品处理配件和排气接口均针对半导体洁净室的工作流程和污染控制进行了配置。.
3.晶圆处理与批量加工
专用晶圆托架支持批量处理，其兼容的晶圆直径和批量容量由反应室和托架的配置决定。.
4. 带图案晶圆和MEMS的干燥
支持湿法加工和MEMS脱模后的干燥，有助于减少毛细作用引起的粘附和精细结构的塌陷。.
5. 敏感微结构的制备方法
可调节的充气、置换和减压设置，可满足图案化芯片、悬浮结构及其他敏感半导体样品的需求。.
添加经过验证的规格表，其中应包括单位、工作范围、尺寸、电源要求和配置选项。.
请添加已确认的应用领域、兼容的样品类型以及任何必要的限制或操作条件说明。.
请为该型号添加已获批准的宣传册、手册、应用说明、演示视频及下载链接。.
